Hafniyum tetraklorür | HfCl4 tozu | CAS 13499-05-3 | fabrika fiyatı

Kısa Açıklama:

Hafniyum tetraklorürün, hafniyum oksit öncüsü, organik sentez katalizörü, nükleer uygulamalar ve ince film biriktirme gibi önemli uygulamaları bulunmaktadır ve bu da çeşitli teknolojik alanlardaki çok yönlülüğünü ve önemini vurgulamaktadır.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Bize e-posta gönderin

Ürün Detayı

Ürün Etiketleri

Ürün Açıklaması

Kısa tanıtım

Ürün Adı: Hafniyum tetraklorür
CAS Numarası: 13499-05-3
Bileşik Formülü: HfCl4
Moleküler Ağırlık: 320.3
Görünüm: Beyaz toz

Şartname

Öğe	Şartname
Dış görünüş	Beyaz toz
HfCl4+ZrCl4	≥%99,9
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Başvuru

Hafniyum Dioksit Öncülü: Hafniyum tetraklorür, öncelikle mükemmel dielektrik özelliklere sahip bir malzeme olan hafniyum dioksit (HfO2) üretmek için bir öncü olarak kullanılır. HfO2, yarı iletken endüstrisinde transistörler ve kapasitörler için yüksek-k dielektrik uygulamalarında yaygın olarak kullanılır. HfCl4, ince hafniyum dioksit filmleri oluşturma yeteneği nedeniyle gelişmiş elektronik cihazların üretiminde önemlidir.
Organik sentez katalizörü: Hafniyum tetraklorür, özellikle olefin polimerizasyonu olmak üzere çeşitli organik sentez reaksiyonları için katalizör olarak kullanılabilir. Lewis asidi özellikleri, aktif ara maddelerin oluşmasına yardımcı olarak kimyasal reaksiyonların verimliliğini artırır. Bu uygulama, kimya endüstrisinde polimerlerin ve diğer organik bileşiklerin üretiminde değerlidir.
Nükleer Uygulama: Yüksek nötron emilim kesiti nedeniyle hafniyum tetraklorür nükleer uygulamalarda, özellikle nükleer reaktörlerin kontrol çubuklarında yaygın olarak kullanılır. Hafniyum nötronları etkili bir şekilde emebilir, bu nedenle nükleer güç üretiminin güvenliğini ve verimliliğini artırmaya yardımcı olan fisyon sürecini düzenlemek için uygun bir malzemedir.
İnce Film Biriktirme: Hafniyum tetraklorür, hafniyum bazlı malzemelerin ince filmlerini oluşturmak için kimyasal buhar biriktirme (CVD) işlemlerinde kullanılır. Bu filmler, mikroelektronik, optik ve koruyucu kaplamalar dahil olmak üzere çeşitli uygulamalarda önemlidir. Tek tip, yüksek kaliteli filmler biriktirme yeteneği, HfCl4'ü gelişmiş üretim süreçlerinde değerli kılar.