Hafnium tetraklorür | HFCL4 Toz | CAS 13499-05-3 | fabrika fiyatı

Kısa Açıklama:

Hafnium tetraklorür, Hafnium oksit, organik sentez için katalizör, nükleer uygulamalar ve ince film birikimi olarak önemli uygulamalara sahiptir, bu da çeşitli teknolojik alanlarda çok yönlülüğünü ve önemini vurgular.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Bize E -posta Gönder

Ürün detayı

Ürün Etiketleri

Ürün Açıklaması

Kısa Giriş

Ürün Adı: Hafnium tetraklorür
CAS No.: 13499-05-3
Bileşik Formül: HFCL4
Moleküler ağırlık: 320.3
Görünüm: Beyaz Toz

Spesifikasyon

Öğe	Spesifikasyon
Dış görünüş	Beyaz toz
HFCL4+ZRCL4	≥99.9
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Başvuru

Hafnium dioksit öncüsü: Hafnium tetraklorür öncelikle mükemmel dielektrik özelliklere sahip bir malzeme olan Hafnium dioksit (HFO2) üretmek için bir öncü olarak kullanılır. HFO2, yarı iletken endüstrisindeki transistörler ve kapasitörler için yüksek K dielektrik uygulamalarında yaygın olarak kullanılmaktadır. HFCL4, Hafnium dioksit ince filmleri oluşturma yeteneği nedeniyle gelişmiş elektronik cihazların üretiminde esastır.
Organik sentez katalizörü: Hafnium tetraklorür, çeşitli organik sentez reaksiyonları, özellikle olefin polimerizasyonu için bir katalizör olarak kullanılabilir. Lewis asit özellikleri aktif ara maddeler oluşturulmasına yardımcı olur, böylece kimyasal reaksiyonların verimliliğini artırır. Bu uygulama, kimya endüstrisindeki polimerlerin ve diğer organik bileşiklerin üretiminde değerlidir.
Nükleer uygulama: Yüksek nötron absorpsiyon kesiti nedeniyle, Hafnium tetraklorür nükleer uygulamalarda, özellikle nükleer reaktörlerin kontrol çubuklarında yaygın olarak kullanılmaktadır. Hafnium nötronları etkili bir şekilde emebilir, bu nedenle nükleer enerji üretiminin güvenliğini ve verimliliğini artırmaya yardımcı olan fisyon sürecini düzenlemek için uygun bir malzemedir.
İnce film birikimi: Hafnium tetraklorür, Hafnium bazlı malzemelerin ince filmlerini oluşturmak için kimyasal buhar biriktirme (CVD) işlemlerinde kullanılır. Bu filmler mikroelektronik, optik ve koruyucu kaplamalar dahil olmak üzere çeşitli uygulamalarda gereklidir. Tek tip, yüksek kaliteli filmler yatırma yeteneği, HFCL4'ü gelişmiş üretim süreçlerinde değerli kılar.